机译:使用变质级配缓冲器在200mm硅衬底上异质外延生长In0.30Ga0.70as高电子迁移率晶体管
机译:使用变质梯度缓冲液在200 mm硅衬底上异质外延生长In0.30Ga0.70As高电子迁移率晶体管
机译:采用不同缓冲层配置的200mm硅(111)基板上的AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管结构的研究
机译:具有In_xGa_(1-x)P梯度缓冲层的GaAs衬底上的新型In_(0.52)Al_(0.48)As / I_(0.53)Ga_(0.47)As变质高电子迁移率晶体管
机译:通过新的缓冲层配置将AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管结构缩放到200mm硅(111)基板上
机译:InP基质上III-V级阴离子变质缓冲液的科学和应用。
机译:使用不同缓冲层配置的200mm硅(111)衬底上的AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管结构研究
机译:In In [下标0.30] Ga [下标0.70]的异质外延生长作为200 mm硅衬底上的高电子迁移率晶体管使用变质梯度缓冲